1. 電容薄膜規(guī)工作原理 l 壓力使膜片變形，變形量與壓力大小成比例關系 l 通過測量不同壓力下的陶瓷膜片的變形量測量真空度

2. 電容薄膜規(guī)特點 l 以可靠的超純陶瓷傳感器室為基礎構成 l 在嚴酷和腐蝕性環(huán)境中,穩(wěn)定與可靠的高精度壓強測量 l 快速的預熱和恢復時間,提高生產率 l 的長期穩(wěn)定性,再現性和重復性 l 由于電子學直接安裝在傳感器上,改進了溫度補償和EMC兼容性 l 對環(huán)境條件變化的敏感度的降低使得測量更穩(wěn)定 l 快速預熱在開機的一分鐘內達到快速穩(wěn)定和進入 準備使用狀態(tài) l 一鍵按鈕: 調零功能和設點調整 l 抗腐蝕超純陶瓷傳感器 l 能經受數百萬次壓強循環(huán)周期,包括大氣壓 沖擊,無任何降低性能的跡象 l 暴露大氣壓后快速恢復,無需隔離閥 l 對蒸氣介質不敏感 l 傳感器屏蔽 延長真空計在污染的工藝過程中的使用壽命

3.陶瓷技術 l 陶瓷技術的*性

1) 無 “記憶” 效應

2) 陶瓷無疲勞問題

3) 好的溫度補償

4) 的零點穩(wěn)定性 l 低使用成本

5) 非凡的使用壽命

6) 無需隔離閥

4. 測量范圍

5. 加熱型薄膜規(guī)

6. 加熱型優(yōu)點 l 零飄極小0.1%FS/年（干凈真空環(huán)境） l 更高的精度 l 環(huán)境溫度變換/環(huán)境壓力變化/環(huán)境氣流變化對精度無影響 l 比工藝更快的預熱啟動時間’ l 快速恢復時間 大氣壓 < 1 min within 5mV l 任意安裝角度 l 抗污染，可有效抵抗工藝氣體或工藝產生氣體的腐蝕影響

7. 電容薄膜規(guī)的應用要求高的應用條件下，精確而快速的壓強測量 l 用于刻蝕，CVD,PVD,ALD半導體設備制造，如太陽能光伏行業(yè)的PECVD用的很多，刻蝕上一般用陶瓷型的比較多，抗污染性能比較好。