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磁控濺射陰極技術及特點
磁控濺射陰極技術及特點
更新時間：2015-09-18 點擊次數(shù)：2039
磁控濺射陰極
核心技術及特點：
1.特殊設計的磁體結構，使得磁場線跨度范圍更寬，從而提高靶材的利用率和膜層的均勻性
2.湍流冷卻技術，使得水流能夠更平緩的進入陰極，從而提高冷卻效果
3.特殊設計的耙材固定結構，使得耙材更換起來更簡單，降低停工期
4.*的磁體材料 NdFeB，他的強度比其他的稀土磁體要強30%
磁控濺射陰極優(yōu)勢
1.*的靶材利用率，zui高可以達到50%，從而降低靶材成本
2.*的產品均勻性，zui高可以達到±3%
3.可以在更低的真空以及更高的功率下運行：zui低壓力可以達到10-4TOR
4.我們的直接水冷結構可以提高其功率密度達到250Watt s/in2
5.提高沉積速率
6.多樣的復合設計
7.高標準率
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